標準操作規(guī)程以及用于法規(guī)和常規(guī)分析的全面開發(fā)的方法，可為您節(jié)省數(shù)周的方法開發(fā)和文檔編制時間。
超高基質(zhì)進樣系統(tǒng) (UHMI) 可在不稀釋的情況下直接分析總溶解態(tài)固體含量高達 25% 的樣品，從而減少樣品前處理時間。
氦氣碰撞池和半質(zhì)量校正可消除棘手的多原子和雙電荷離子干擾，避免降低數(shù)據(jù)質(zhì)量，同時可減少高成本的樣品重新測量需求。
可靠的硬件使您無需基質(zhì)匹配的校準標樣即可測定高基質(zhì)樣品。
IntelliQuant 可提供每個樣品的完整元素譜，幫助您輕松識別異常樣品基質(zhì)。
異常值條件格式 (OCF) 可突出顯示超出范圍或不滿足測試要求的結果，從而減少工作繁忙或經(jīng)驗不足的 ICP-MS 操作人員審查數(shù)據(jù)的時間。
早期維護反饋 (EMF) 功能采用傳感器和計數(shù)器確定系統(tǒng)何時需要維護。交通信號燈式顏色預警確保您不會錯過任何維護任務，但也不會過于頻繁地進行維護。
ICP Go 是一款用于移動設備的基于瀏覽器的可選用戶界面，能夠簡化常規(guī)樣品批次的設置和控制，非常適合來回奔走的 ICP-MS 操作人員。
針對特定方法的分析儀套裝包含 ICP-MS 硬件、軟件、消耗品、專業(yè)服務和文檔，確保您能在數(shù)周內(nèi)開始運行樣品，無需耗費數(shù)月時間進行法規(guī)方法開發(fā)、優(yōu)化、驗證和文檔編制。
技術參數(shù)
Agilent ICP-MS 7850技術參數(shù)：
整機氣路控制;雙通道石英霧室，霧室外配置全包裹式半導體制冷裝置，提升去溶效果;高鹽進樣系統(tǒng)
二次放電消除技術:具備屏蔽矩物理接地技術
離子透鏡:由離子提取和離子偏轉雙系統(tǒng)組成，離子透鏡放置于碰撞反應池之前，以保證中性離子不會進入到碰撞反應池
在水質(zhì)樣品多元素分析中，一次分析不少于26種元素，獲得9Be與11B的DL≤6.0ppt，56Fe與78Se的DL≤20ppt，202Hg的DL≤2.0pp
氧化物產(chǎn)率(CeO+/Ce+):≤1.6%
雙電荷產(chǎn)率(Ce2+/Ce+):≤3.0%
