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四方光電(武漢)儀器有限公司

當(dāng)前位置:四方光電(武漢)儀器有限公司>>氣體分析儀器>>煤氣分析儀>> GasTDL-3100原位激光過程氣體分析儀

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當(dāng)前位置:四方光電(武漢)儀器有限公司>>氣體分析儀器>>煤氣分析儀>> GasTDL-3100原位激光過程氣體分析儀

原位激光過程氣體分析儀

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào):GasTDL-3100

品       牌:四方儀器

廠商性質(zhì):生產(chǎn)商

所  在  地:武漢市

更新時(shí)間:2025-03-10 11:37:20瀏覽次數(shù):5385次

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上市時(shí)間:
2021-9-28
創(chuàng)  新 點(diǎn):
原位激光過程氣體分析儀GasTDL-3100是基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)(TDLAS)的高性能光學(xué)分析儀器,采用對(duì)射式設(shè)計(jì),可用于工業(yè)過程氣體控制;其響應(yīng)時(shí)間快速,在原位式測(cè)量中一般以秒計(jì)算,避免采樣式測(cè)量帶來的時(shí)間延遲,可在線及時(shí)的反應(yīng)被測(cè)氣體濃度。
測(cè)量范圍 O2:(0 ~ 5)%VOL (可定制100%) 產(chǎn)地 國(guó)產(chǎn)
加工定制 儀器種類 其他
原位激光過程氣體分析儀采用對(duì)射式設(shè)計(jì),可用于工業(yè)過程氣體控制,響應(yīng)快速(T90≤4s),可實(shí)時(shí)反應(yīng)氣體濃度;采用TDLAS技術(shù),被測(cè)氣體不受背景氣體交叉干擾,適用于高溫、高粉塵、高水分、高腐蝕性、高流速等惡劣測(cè)量環(huán)境監(jiān)測(cè)。

激光氧/一氧化碳/甲烷分析儀



原位激光過程氣體分析儀

產(chǎn)品名稱:原位激光過程氣體分析儀 

產(chǎn)品型號(hào):GasTDL-3100

原位激光過程氣體分析儀GasTDL-3100是基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)(TDLAS)的高性能光學(xué)分析儀器,采用對(duì)射式設(shè)計(jì),可用于工業(yè)過程氣體控制;其響應(yīng)時(shí)間快速,在原位式測(cè)量中一般以秒計(jì)算,避免采樣式測(cè)量帶來的時(shí)間延遲,可在線及時(shí)的反應(yīng)被測(cè)氣體濃度。


原位激光過程氣體分析儀產(chǎn)品特性:

  1、采用TDLAS技術(shù),被測(cè)氣體不受背景氣體交叉干擾

  2、原位安裝,無需采樣預(yù)處理系統(tǒng)

  3、響應(yīng)快速(T90≤4s),可實(shí)時(shí)反應(yīng)氣體濃度

  4、實(shí)時(shí)在線測(cè)量,氣體濃度不易失真,測(cè)量精度高

  5、在高溫、高粉塵、高水分、高腐蝕性、高流速等惡劣測(cè)量環(huán)境下具有良好的適應(yīng)性

  6、隔爆防爆設(shè)計(jì),安全系數(shù)高

  7、構(gòu)造簡(jiǎn)潔,無可動(dòng)元件,無損耗元件,免維護(hù)

  

原位激光過程氣體分析儀技術(shù)參數(shù):

原位激光過程氣體分析儀性能參數(shù)

測(cè)量組份

O2、CO、CO2、CH4*

測(cè)量原理

TDLAS

測(cè)試范圍

O2:(0 ~ 5)%VOL (可定制100'%)

CO:(0 ~ 100)%VOL

CO2:(0 ~ 100)%VOL

CH4:(0 ~ 20)%VOL


精度

≤±1%F.S.

重復(fù)性

≤±1%F.S.

量程漂移

≤±1%F.S.

分辨率

0.01%VOL

響應(yīng)時(shí)間

T90≤1s

工作參數(shù)

防爆等級(jí)

Ex db IIC T6 Gb / Ex tb IIIC T80℃ Db

安裝方式

原位安裝

環(huán)境溫度

(-20~ +60)℃

工作電源

24V DC,24W

吹掃氣體

(0.3~ 0.8)MPa工業(yè)氮?dú)?o:p>

接口信號(hào)

通訊

RS485、RS232

輸出模式

2路4-20mA輸出

3路繼電器輸出

*注釋:每套分析儀測(cè)量單一組分氣體濃度


可測(cè)量:O2、CO、CO2、CH4*氣體組分

*注釋:每套分析儀測(cè)量單一組分氣體濃度


原位激光過程氣體分析儀




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