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伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 輔助鍍制 HfO2 薄膜

來源：上海伯東企業(yè)有限公司 2020年10月12日 14:50

傳統(tǒng)直接蒸發(fā) HfO₂塊材料, 容易產(chǎn)生節(jié)瘤缺陷, 吸收很大, 限制了薄膜的激光損傷閾值, 因此, 為了獲取高質(zhì)量的 HfO₂薄膜, 某機(jī)構(gòu)采用 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 輔助鍍制 HfO₂薄膜.

客戶的樣品基底材料為 K9 玻璃, 靶材為 HfO₂塊材料, 運行的離子源偏壓為 90V.

伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術(shù)參數(shù):

離子源型號	離子源 KDC 160
Discharge	DC 熱離子
離子束流	>650 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	16 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	2-30 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	25.2 cm
直徑	23.2 cm
中和器	燈絲

* 可選: 可調(diào)角度的支架

應(yīng)用結(jié)果：

通過使用伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 在偏壓為 90V 時, 制造得到的HfO₂ 薄膜晶粒減小, 膜結(jié)構(gòu)更均勻, 緩解了激光能量的局部聚焦, 因此具有較高的損傷閾值.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口品牌的代理商.

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