上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 40, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.
KRI 射頻離子源 RFICP 40 屬于大面積射頻離子源, 離子束流: >100 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量 （Typical flow）: 3-10 sccm.
采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無(wú)需電離燈絲, 工藝時(shí)間更長(zhǎng).
上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 40, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.
KRI 射頻離子源 RFICP 40 屬于大面積射頻離子源, 離子束流: >100 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量 (Typical flow): 3-10 sccm.
采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無(wú)需電離燈絲, 工藝時(shí)間更長(zhǎng).
離子源采用模塊化設(shè)計(jì), 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝.
適用于集成在小型的真空腔體內(nèi).
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 40 特性:
1. 離子源放電腔 Discharge Chamber, 無(wú)需電離燈絲, 通過射頻技術(shù)提供高密度離子, 工藝時(shí)間更長(zhǎng).
2. 離子源結(jié)構(gòu)模塊化設(shè)計(jì), 使用更簡(jiǎn)單; 基座可調(diào)節(jié), 有效優(yōu)化蝕刻率和均勻性.
3. 提供聚焦, 發(fā)散, 平行的離子束
4. 離子源自動(dòng)調(diào)節(jié)技術(shù)保障柵極的使用壽命和可重復(fù)的工藝運(yùn)行
5. 柵極材質(zhì)鉬和石墨,堅(jiān)固耐用
6. 離子源中和器 Neutralizer, 測(cè)量和控制電子發(fā)射,確保電荷中性
KRI 射頻離子源 RFICP 40 技術(shù)參數(shù):
離子源型號(hào) | RFICP 40 |
Discharge | RFICP 射頻 |
離子束流 | >100 mA |
離子動(dòng)能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 4 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 3-10 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長(zhǎng)度 | 12.7 cm |
直徑 | 13.5 cm |
中和器 | LFN 2000 |
* 可選: 燈絲中和器; 可變長(zhǎng)度的增量
伯東KRI 射頻離子源 RFICP 40 應(yīng)用領(lǐng)域：
1. 預(yù)清洗
2. 表面改性
3. 輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD,
4. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
5. 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
6. 離子蝕刻 IBE
