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環(huán)境空氣氨氣連續(xù)自動監(jiān)測系統(tǒng)(NH3)

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2021-08-13
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 所在地區(qū)北京市
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量28
  • 人氣值330
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~北京大方科技有限責任公司是由留學歸國人員創(chuàng)辦的集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和服務為一體的*,是*的環(huán)境與安全分析檢測儀器生產(chǎn)商與系統(tǒng)解決方案供應商。

     大方科技總部位于北京中關(guān)村科技園區(qū),生產(chǎn)基地位于遼寧營口沿海產(chǎn)業(yè)基地。公司匯聚了畢業(yè)于美國斯坦福大學等學府的技術(shù)與管理精英,聘請美國工程院院士擔任公司技術(shù)顧問。公司掌握TDLAS核心技術(shù),擁有光學、電子、機械以及信息技術(shù)等領(lǐng)域?qū)I(yè)配套、經(jīng)驗豐富、高水平的研發(fā)團隊,自主研發(fā)的激光氣體在線分析系統(tǒng),擁有*自主知識產(chǎn)權(quán),廣泛應用于環(huán)保、電力、水泥、陶瓷、化工、冶金、焦化以及工業(yè)鍋爐等領(lǐng)域,在海內(nèi)外擁有近千套的成熟案例。

      公司先后被認定為“國家*”、“中關(guān)村*”、“海淀區(qū)創(chuàng)新企業(yè)”。團隊*入選國家“千人計劃”,為“國家特聘專家”,入選北京市“海聚工程”,為“北京市特聘專家”。公司的激光氣體分析產(chǎn)品獲得“國家重點新產(chǎn)品”證書,擁有多項發(fā)明和軟件著作權(quán)。

       依托強大的研發(fā)和技術(shù)服務團隊,大方科技以專業(yè)的水準、高標準的要求、完善的技術(shù)方案,竭誠為廣大用戶提供優(yōu)質(zhì)高效的產(chǎn)品和服務。

 

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環(huán)境空氣氨氣連續(xù)自動監(jiān)測系統(tǒng)一、項目概述氨是形成大氣污染的重要因素之一,越來越受到環(huán)境監(jiān)管部門的重視
環(huán)境空氣氨氣連續(xù)自動監(jiān)測系統(tǒng)(NH3) 產(chǎn)品詳情

環(huán)境空氣氨氣連續(xù)自動監(jiān)測系統(tǒng)


一、項目概述

      氨是形成大氣污染的重要因素之一,越來越受到環(huán)境監(jiān)管部門的重視。環(huán)境空氣中氨濃度極低、易吸附,傳統(tǒng)測量方法遇到很大的挑戰(zhàn)。大方科技結(jié)合氨逃逸在線監(jiān)測的豐富經(jīng)驗,采用開放光程TDLAS技術(shù),開發(fā)的環(huán)境空氣氨氣連續(xù)自動監(jiān)測產(chǎn)品,具有光程長、測量精度高、無吸附、響應速度快等特點,適合環(huán)境空氣中痕量氨的實時在線監(jiān)測。

二、測量原理

      系統(tǒng)采用可調(diào)諧半導體激光吸收光譜(TDLAS)技術(shù)進行NH3的測量,以可調(diào)諧激光器作為光源,發(fā)射出特定波長激光束,穿過待測氣體,通過分析被測氣體中NH3分子吸收導致的激光光強衰減,根據(jù)朗伯比爾定律,氣體濃度與其吸收光強成比例關(guān)系,從而實現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測待測氣體中NH3濃度。因為激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),且只發(fā)出待測氣體吸收的特定波長,使得測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾,相比其它復合光源而言,具有*的測量精度。

   朗伯比爾定律:    

                   

   其中光譜吸收系數(shù):

                       

三、測量方案

      根據(jù)環(huán)境空氣中氨濃度低、易吸附、測量精度要求高等特點,方案采用了上*的開放光程遙測TDLAS技術(shù),設備覆蓋范圍廣,光程長,測量精度也得到了極大的提高。

      系統(tǒng)由分析單元和反射單元組成,分析單元向反射單元發(fā)射激光,經(jīng)反射后進入分析單元接收和解析測量。分析單元一體化設計,小巧輕便。反射單元采用自主開發(fā)的高反裝置,可以覆蓋較遠的距離。系統(tǒng)配置自動校準裝置,可以定期對設備進行自動校準,也可對設備進行手動校準和檢驗。 

四、系統(tǒng)特點

1 采用TDLAS技術(shù),不受背景氣體影響

      系統(tǒng)采用可調(diào)諧二極管激光吸收光譜技術(shù)進行氣體的測量,由于激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),且只發(fā)射待測氣體吸收的特定波長,使測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾。

2 系統(tǒng)無漂移,避免了定期校正需要

      系統(tǒng)內(nèi)部設計有標定氣室,用于設備自動標定及實時的氣體吸收譜線鎖定,設備通過該氣室自動標定,無需人為定期標定。同時測量時進行實時動態(tài)補償,使測量不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響,不存在漂移現(xiàn)象。

3 直接測量更準確

      系統(tǒng)采用可調(diào)諧半導體激光吸收光譜技術(shù),直接測量NH3分子對特定波長光強的吸收,計算NH3的濃度,無需進行NH3向其它的物質(zhì)轉(zhuǎn)換,避免了因轉(zhuǎn)換效率等因素影響的測量準確度,不需要定制的轉(zhuǎn)換設備的維護和更換,準確度更高,運行維護成本更低。

4 測量精度高

      系統(tǒng)采用開放光程測量方式,光程長,覆蓋范圍更廣,測量精度更高。

5 無吸附損失

      系統(tǒng)采用開放式光路設計,測量光直接在測量區(qū)域發(fā)射、反射及接收,不需要采樣、過濾等預處理,測量過程中無任何的NH3吸附、損失。

6 響應速度快

      TDLAS技術(shù)實現(xiàn)毫秒級掃描,無須采樣、轉(zhuǎn)換等過程,系統(tǒng)響應速度快。

7 可靠性高、運維成本低

      分析儀一體化設計,無任何運動部件。系統(tǒng)光學部件均設計有保護裝置,避免設備在運行時光學器件受到污染,極大的降低了運行維護的工作量和成本。

8 儀表自檢及自恢復功能

      大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復功能,軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態(tài),可以通過自檢及自恢復,使分析儀重新恢復測量工作狀態(tài)。

9 自主知識產(chǎn)權(quán)

      大方科技深耕TDLAS技術(shù)領(lǐng)域20年,針對國內(nèi)應用現(xiàn)場監(jiān)測難點進行專業(yè)和定制化開發(fā),擁有數(shù)十項發(fā)明和軟件著作權(quán),對產(chǎn)品擁有*自主知識產(chǎn)權(quán),產(chǎn)品具有高可靠性和適用性。

五、典型應用:

      空氣站環(huán)境空氣中氨濃度的實時在線監(jiān)測;

      廠界或園區(qū)環(huán)境空氣氨濃度的實時在線監(jiān)測。

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