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網格取樣激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)(NH3)

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2021-08-13
  • 廠商性質生產廠家
  • 所在地區(qū)北京市
  • 實名認證已認證
  • 產品數(shù)量28
  • 人氣值332
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~北京大方科技有限責任公司是由留學歸國人員創(chuàng)辦的集研發(fā)、生產、銷售和服務為一體的*,是*的環(huán)境與安全分析檢測儀器生產商與系統(tǒng)解決方案供應商。

     大方科技總部位于北京中關村科技園區(qū),生產基地位于遼寧營口沿海產業(yè)基地。公司匯聚了畢業(yè)于美國斯坦福大學等學府的技術與管理精英,聘請美國工程院院士擔任公司技術顧問。公司掌握TDLAS核心技術,擁有光學、電子、機械以及信息技術等領域專業(yè)配套、經驗豐富、高水平的研發(fā)團隊,自主研發(fā)的激光氣體在線分析系統(tǒng),擁有*自主知識產權,廣泛應用于環(huán)保、電力、水泥、陶瓷、化工、冶金、焦化以及工業(yè)鍋爐等領域,在海內外擁有近千套的成熟案例。

      公司先后被認定為“國家*”、“中關村*”、“海淀區(qū)創(chuàng)新企業(yè)”。團隊*入選國家“千人計劃”,為“國家特聘專家”,入選北京市“海聚工程”,為“北京市特聘專家”。公司的激光氣體分析產品獲得“國家重點新產品”證書,擁有多項發(fā)明和軟件著作權。

       依托強大的研發(fā)和技術服務團隊,大方科技以專業(yè)的水準、高標準的要求、完善的技術方案,竭誠為廣大用戶提供優(yōu)質高效的產品和服務。

 

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網格取樣激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)一、項目概述脫硝噴氨過程需要準確監(jiān)測氨逃逸濃度,針對大型機組脫硝反應器出口煙道較大、煙道環(huán)境復雜,對煙道監(jiān)測有更高要求的用戶,可采用網格取樣方式監(jiān)測氨逃逸
網格取樣激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)(NH3) 產品詳情

網格取樣激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)


一、項目概述

      脫硝噴氨過程需要準確監(jiān)測氨逃逸濃度,針對大型機組脫硝反應器出口煙道較大、煙道環(huán)境復雜,對煙道監(jiān)測有更高要求的用戶,可采用網格取樣方式監(jiān)測氨逃逸。網格取樣裝置安裝在脫硝反應器出口煙道,經過匯流母管與電除塵入口煙道連接,通過壓差帶動煙氣流動,煙氣在母管內進行混合后進行取樣測量。


二、測量原理

      系統(tǒng)采用可調諧半導體激光吸收光譜(TDLAS)技術進行NH3的測量,以可調諧激光器作為光源,發(fā)射出特定波長激光束,穿過待測氣體,通過分析被測氣體中NH3分子吸收導致的激光光強衰減,根據朗伯比爾定律,氣體濃度與其吸收光強成比例關系,從而實現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測待測氣體中NH3濃度。因為激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),且只發(fā)出待測氣體吸收的特定波長,使得測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾,相比其它復合光源而言,具有*的測量精度。

   朗伯比爾定律:    

                   

   其中光譜吸收系數(shù):

                       

三、測量方案

      根據脫硝氨逃逸測量點高溫、高濕、高粉塵、震動等工況特點以及測量濃度低、測量精度要求高等要求,產品采用大方科技經典的抽取+多反長光程測量技術,煙氣通過網格采樣系統(tǒng)取樣至母管混合后進入分析單元測量分析。分析單元采用多次反射樣氣室,測量光程可達30米,可大大提高測量精度。 

四、系統(tǒng)特點

1 采用TDLAS技術,不受背景氣體影響

      系統(tǒng)采用可調諧二極管激光吸收光譜技術進行氣體的測量,由于激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),且只發(fā)射待測氣體吸收的特定波長,使測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾。

2 系統(tǒng)無漂移,避免了定期校正需要

      系統(tǒng)采用波長調制光譜技術,并且進行動態(tài)的補償,實時鎖住氣體吸收譜線,不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響,不存在漂移現(xiàn)象。

3 全程高溫伴熱,避免氨氣吸附損失

      抽取式測量的分析方式采用全程高溫伴熱,確保無氨氣吸附損失。

4 采用多次反射樣氣室,極大地提高測量精度

      系統(tǒng)采用多次反射測量池技術,光程可達30米,極大地提高了測量精度。

5 取樣更有代表性

      根據煙道尺寸和用戶需求,選擇網格數(shù)量,取樣更有代表性。

技術,便于維護光學器件

      大方科技*的樣氣室設計,包含維護窗口,可以在不影響光路的情況下,對污染的光學器件進行清潔,無需重新調節(jié)光路,讓維護更加快速方便。

7 儀表自檢及自恢復功能

      大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復功能,軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態(tài),可以通過自檢及自恢復,使分析儀重新恢復測量工作狀態(tài)。

8 自主知識產權

      大方科技深耕TDLAS技術領域20年,針對國內應用現(xiàn)場監(jiān)測難點進行專業(yè)和定制化開發(fā),擁有數(shù)十項發(fā)明和軟件著作權,對產品擁有*自主知識產權,產品具有高可靠性和適用性。

五、典型應用:

      大型機組、自備電廠脫硝氨逃逸監(jiān)測

關鍵詞:儀表
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